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密閉加熱循環(huán)器中PID溫度控制系統(tǒng)知多少

簡要描述:【無錫冠亞】密閉加熱循環(huán)器中PID溫度控制系統(tǒng)知多少,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產品型號:SUNDI-635
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-14
  • 訪  問  量:831
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航空航天

<strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
介質溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525
制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
100℃5.57.5101525
20℃5.57.5101525
-20℃4.868.21225
-40℃2.33.14.87.818
-55℃0.750.91.52.86
流量壓力 max  L/min bar355060110150
222.52.52.5
循環(huán)泵冠亞磁力驅動泵
壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
水冷型 W
溫度 20度
1800L/H
1.5bar~4bar
G3/4
2100L/H
1.5bar~4bar
G3/4
3000L/H
1.5bar~4bar
G1
4000L/H
1.5bar~4bar
G1 1/8
8.5m³/H
1.5bar~4bar
DN40
外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
重量kg265305340380980
電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

 <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

密閉加熱循環(huán)器中PID溫度控制系統(tǒng)知多少

密閉加熱循環(huán)器中PID溫度控制系統(tǒng)知多少

  密閉加熱循環(huán)器是一種廣泛應用于化工、醫(yī)藥等行業(yè)的生產設備,在生產過程中影響產品質量的因素很多,而反應釜溫度控制是其中的關鍵環(huán)節(jié),PID算法溫度控制涉及到化工、醫(yī)藥等行業(yè)以及各種反應釜溫度控制系統(tǒng)。

  化學和制藥工業(yè)中的常見反應無論反應條件或反應過程如何,都有一定的復雜性,在不同反應階段熱效應各不相同。常規(guī)反應釜一般采用各種熱交換介質來控制反應釜的溫度,在切換過程中,應先用夾套(或盤管)將熱交換介質清洗干凈,再換成其他熱交換介質,傳統(tǒng)的反應釜溫度控制方式不能*脫離人工控制。傳統(tǒng)的反應釜溫度控制系統(tǒng)對操作者提出了較高的要求,主觀因素在一定程度上影響了控制精度,換熱效率無法大幅度提高。

  為克服現(xiàn)有技術中存在的換熱介質切換、人工控制、換熱效率低等問題,密閉加熱循環(huán)器采用PID控制算法,對反應釜溫度進行控制,為解決化工、醫(yī)藥等領域的溫度控制問題,提出了一種新型的PID控制算法,該算法采用單一的換熱介質控制反應溫度,減少換熱介質的切換;采用全自動控制方式控制反應釜溫度,減少人為因素的影響,增加了換熱介質在反應釜夾套(或盤管)中的循環(huán)過程,進一步提高了換熱效率。

  密閉加熱循環(huán)器PID算法用于對收集到熱交換介質管內的高溫、常溫和低溫管內的溫度進行PID控制,通過內部循環(huán)泵連接到反應釜夾套/線圈管內。通過換熱介質進入反應釜夾套/盤管出口,分別與高溫、常溫和低溫出口管路連接,在換熱介質出口管路上設置有夾套/盤管出口調節(jié)閥。熱交換介質集管、內部循環(huán)泵和反應釜夾套/盤管、熱交換介質出口集管、夾套/盤管出口調節(jié)閥和三個出口調節(jié)閥組成外部熱交換介質循環(huán)集管;夾套/盤管出口調節(jié)閥和夾套/盤管出口調節(jié)閥位于反應釜內。內循環(huán)支設于兩者之間的熱交換介質出口支管上,單向閥設置于內循環(huán)支上。內循環(huán)支管的一端連接三個進料管和內循環(huán)泵之間的熱交換介質進料管;反應釜夾套/盤管,內循環(huán)支管,止回閥,內循環(huán)泵組成熱交換介質的內循環(huán)系統(tǒng)。

在化工、醫(yī)藥等生產過程中,反應釜溫度的控制不僅關系到產品的質量,而且也關系到生產過程的靠譜,如何對其進行準確、有效的控制,已成為一個重要問題。

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